CP-5000 Tester (Chemisch-Mechanischer Polierer Prüfgerät)
- Echtzeit-Reibungskoeffizient
- Kontrollierte Normalkraft und Geschwindigkeit
- Integriertes 3D-Profilometer
- Mehrere Wafergrößen montierbar
- Inline-Temperatur und Schallemission zum Untersuchungsprozess
Fortschrittliche Prozess- und Produktentwicklungen sind mit dem CMP-Polierer möglich. Wir haben die Produktentwicklung optimiert, indem wir mehrere Polierprozesse auf einer Plattform bereitgestellt haben. Dazu gehören ein breiter Drehzahlbereich, eine geschlossene Kraftregelung, vielseitige Waferhalter und ein automatisches Slurry-Zufuhrsystem. Zusätzlich überwacht der CMP-Tester mehrere Inline-Signale während des Polierprozesses. Neben dem Polieren von Wafern und Substraten ist der Tester mit einem Inline-Oberflächenprofilometer ausgestattet. Diese Kombination gibt Auskunft darüber, wie sich Oberfläche, Reibung und Verschleiß verändert haben.
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Eigenschaften
Unübertroffene Sensortechnologie
Pad-Conditioner
Bietet Conditioner von 0,5 “ bis 4,25″
Zuverlässigkeit und Genauigkeit
Benutzerfreundlichkeit
Inline-Sensoren
Akustisch – Signal, das es ermöglicht, den Endpunkt festzulegen oder beim Polieren Ablagerungen und Defekte zu erkennen.
Temperatur – Die Inline-Temperaturüberwachung des Pades und des Bereichs in der Nähe der Waferpolieroberfläche hilft bei der Untersuchung der Entnahmemechanismen.
Integriertes Inline-3D-Profilometer
Oberfläche "Pad 1"
Merkmal der vollständigen Beule: "Pad 2"
3D-Oberflächenänderung vs. Testläufe
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